【应用】Kheat™ PI加热膜用于PCR仪提高反应管基座的温度均一性，解决位置边缘效应问题
PCR仪一般采用TEC制冷片加热，这种方式温度控制相对准确，升降温速率快，但反应管基座的四周由于热沉的快速散热在升降温速度及稳定温度上都明显低于中间区域，即产生了边缘效应，会影响检测结果的准确性可重复性。
针对上述问题，Ziitek（兆科电子）开发出的一款Kheat™ PI加热膜有助于消除PCR仪温度边缘效应，具体是将Kheat™ PI加热膜环绕在基因扩增仪的反应管基座四周边缘（如上图绿色部件），对反应管基座的边缘加热，进行温度调整补偿，防止反应管基座边缘快速散热导致的位置边缘效应，以提高整个反应管基座的温度均一性。
Kheat™ PI加热膜应用于PCR仪具有如下优势：
1、功率密度高：其加热功率密度最高可以达到1.0W/cm2，可以快速的给反应管基座加热进行温度补偿。
2、使用温度范围广：其使用温度-50～300℃，具有非常好的耐高低温性，同时加上背胶PI膜可以长期在150℃以内工作，不用担心在高温情况下失效问题。
3、可定制任意形状：其结构由两面聚酰亚胺膜通过高温热压合电阻片而成；可制成任意的形状，如回字形，也可有一定形状的弯曲，可铆接、加温感探头等。
4、产品厚度小：产品厚度一般0.3-0.5mm（含背胶），不占用空间，不会对PCR仪结构产生影响。
5、安装方便：可以单面背胶，直接贴在反应管基座即可，安装简单方便。
6、使用寿命长：使用命达到5-10年。
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