【应用】TE工业传感器用于流量监测,耐腐蚀,内表面抛光技术实现超高洁净度

2021-08-23 TE Connectivity
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半导体设备业可以说是整个集成电路产业的基础。半导体已经进入5纳米级加工水平,在这个精度上进行半导体器件制造,需要集合50多个学科的知识与技术。半导体设备不仅要能实现非常精细的加工,更重要的是均匀性、稳定性、重复性、可靠性和洁净性。只有做到这些,才能满足晶圆制造的高合格率要求。中投顾问在《2017-2021年中国半导体行业产业链深度调研及投资前景预测报告》中指出,要保证可以接受的合格率(例如90%),就要求每个加工制造环节都有极高的合格率,因为目前先进制程芯片需要1000多个工艺步骤,每一步的不合格都将影响最终的产品合格率。如果每一步的合格率都为99.9%,则1000个步骤后最终合格率只有36.77%。


半导体设备的高精度需求,也需要其内部各个组成部分都具有高性能的水平,这其中就包括了压力传感器以及温度传感器等,都需要具备高精确度、高可靠性、高稳定性等特点。本文介绍压力监测传感器的应用。


高纯度气体供应对于先进的半导体制造流程至关重要。生产集成电路需要30多种不同的气体,用于蚀刻、沉积、氧化、掺杂和惰性化等应用。使用的气体范围比几乎任何其他行业都广,同时还要确保百万分之一以上的纯度,才能实现整个工艺流程的高准确度。


在生产过程中需要用到的主要气体包括通过空气分离现场产生或作为液态输送的氮气和氧气,作为低温液体输送的氩气和作为压缩气体输送的氢气等。除此之外,清洗用水也是一项极大的消耗物资,同样需要准确控制。


压力传感器进行流量测量是一种被广泛采用的方法。压力传感器被安装到管道中,用来测量管道中的差压,并利用流体的条件和检测件与管道的尺寸来计算流量。该方法计算条件苛刻,方法较复杂,对使用的压力传感器灵敏度和精度要求非常高。同时,流体可能是高温,低温或者腐蚀性气体,因此对传感器的可靠性要求也比较高,必须能够耐受各种恶劣的环境,普通的压力传感器很难胜任。此外,由于半导体应用需要高纯度产品,因此对于传感器本身来说,也需要进行表面光洁度处理,不能对介质造成二次污染。

TE 超高纯度(UHP)压力传感器

TE的超高纯度(UHP)压力传感器支持定制化,采用316L或哈氏合金材料使其更具耐腐蚀性,同时表面经过电气抛光以确保超清洁环境。可应用于气柜压力检测、管道压力检测以及混合器出口压力检测等场合。


TE 85系列压力传感器

TE 85系列压力传感器应用于质量流量控制器(MFC)中,MFC用于对于气体或者液体的质量流量进行精密测量和控制,在半导体制程中,包括扩散、氧化、分子束外延、CVD、等离子刻蚀、溅射、离子注入等工艺都离不开该装置。


85系列压力传感器具有高精度、小尺寸、0-100mV输出、支持表压和绝压测量、温度补偿等多种特性,可以提升MFC特种气体质量控制精度,从而提升工艺良率。85系列压力传感器同样采用了内表面抛光技术实现超高洁净度,并且支持多种金属材料选择,从而确保高可靠性,不会与介质发生反应造成二次污染。

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型号- GZP6816D,GZP6816D 型

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