【技术大神】如何基于RTduroid 6002 基材构建埋置平面电阻微波多层板?

2019-07-29 世强
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美国ROGERS公司生产的RT/duroid 6002PTFE 陶瓷板材,属于一种陶瓷粉填充的聚四氟乙烯(PTFE)介质基板材料,他具有卓越的高频低损耗特性、严格的介电常数和厚度控制、极佳的电气和机械性能、极低的介电常数热系数、与铜相匹配的平面膨胀系数、低Z轴膨胀热膨胀系数等显著特点。


Ohmega-Ply膜电阻是存在于电路板中介质和铜箔之间的一层Ni/P合金膜,厚度根据方阻不同有0.1µm(50ohms/square)、0.05µm(100ohms/square)等几种。


最早,由RGOGERS公司将Ohmega公司提供的Ohmega-Ply膜电阻运用到其微波覆铜箔层压板基材中,制造出RT/duroid 6002PTFE 陶瓷平面电阻微波覆铜箔层压板基材。随后,由于市场需求及产品设计运用等多方因素的影响,作为ROGERS公司分部的ARLON公司也借助Ohmega公司提供的Ohmega-Ply膜电阻材料,研制出CLTE-XT平面电阻微波层压板材料。


随着现代通讯设计需求的日渐提升,不仅要求微波电路的多层化,而且,将埋置平面电阻技术运用于RT/duroid 6002PTFE 陶瓷等介质基板加工之中。


制作埋平面电阻图形工艺流程:
下料一次覆膜曝光、显影检查一次蚀刻(蚀刻铜)二次蚀刻(蚀电阻层)褪膜清洗黑氧化二次覆膜曝光、显影检查酸洗三次蚀刻(蚀刻铜)清洗检查褪膜测量电阻清洗目检层压(埋电阻)



控制关键点——三次蚀刻:
采用水平式碱性氯化铜蚀刻液,温度:48~54℃,PH值:7.6~8.4,含铜量:1.17~1.19g/l,喷淋压力:18~22PSI。下面是蚀刻处理时的一些需要注意的事项:


1)电阻层在碱性蚀刻液中会被慢慢蚀刻,所以在蚀刻液里的时间越长,电阻值偏离就越大,其误差就越大。该误差可以通过改变蚀刻图形来补偿。
2)蚀刻液PH值误差应控制在±0.1之间,可以通过氨水自动添加仪和PH值控制器来实现。
3)如果待处理板上只有一面有电阻,蚀刻时电阻面应朝下,以免蚀刻液聚集在电阻面上。
4)批量生产前,应做试板以优化蚀刻条件。
5)不要触摸和刮伤曝露的电阻层。


平面电阻阻值可实现性测试:

RT/duroid6002电阻材料埋电阻测试


结论

RT/duroid 6002PTFE 陶瓷平面电阻材料,电阻阻值一致性符合设计要求,仅在绝对值上有少许偏差,但仍然在设计要求之许可范围。通过工艺试验研究突破了埋平面电阻技术,完成的8层微波介质电路互连多层微波印制板的制造。Ohmega-Ply平面电阻阻值偏差符合设计要求,稳定性/一致性≤±10%,达到了多层微波印制板设计指标要求。


作者:南京电子技术研究所 杨维生

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