【产品】采用先进沟槽技术的P沟道增强型MOSFET AP30P06K,具有出色漏源导通电阻和低栅极电荷特性

2023-05-03 铨力半导体
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铨力半导体推出一款采用TO-252封装的P沟道增强型MOSFET——AP30P06K,采用先进的沟槽技术,具有出色的漏源导通电阻和低栅极电荷特性,无铅产品,适用于PWM应用、负载开关、电源管理等应用。


 

特点

漏源电压VDS=-60V,连续漏极电流ID=-30A

    漏源导通电阻RDS(ON)<30mΩ@VGS=-10V(典型值23mΩ)

    漏源导通电阻RDS(ON)<38mΩ@VGS=-4.5V(典型值27mΩ)

采用先进的沟槽技术

无铅产品

具有出色的漏源导通电阻和低栅极电荷特性

 

应用

PWM应用

负载开关

电源管理

 

绝对最大额定值参数(Ta=25℃,除非特别说明):

电气参数(Ta=25℃,除非特别说明) 

注: 

1、重复额定值:脉冲宽度受最大结温限制

2、EAS条件:TJ=25℃,VDD=-30V,L=0.5mH,RG=20Ω

3、脉冲测试:脉冲宽度≤300μs,占空比≤2%

4、表面贴装在FR4板,t≤10s


封装标识及订购信息



授权代理商:世强先进(深圳)科技股份有限公司
技术资料,数据手册,3D模型库,原理图,PCB封装文件,选型指南来源平台:世强硬创平台www.sekorm.com
现货商城,价格查询,交期查询,订货,现货采购,在线购买,样品申请渠道:世强硬创平台电子商城www.sekorm.com/supply/
概念,方案,设计,选型,BOM优化,FAE技术支持,样品,加工定制,测试,量产供应服务提供:世强硬创平台www.sekorm.com
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