抢占国内市场！化学机械抛光液厂商昂士特授权世强硬创全线代理

时间： 2023-09-06 来源：世强

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为给全球客户提供最优质的抛光液以及最佳的表面技术解决方案，2023年7月20日，昂士特科技(深圳)有限公司（以下简称“昂士特”，英文名：ANST）与世强先进（深圳）科技股份有限公司（下称“世强先进”）正式签署授权代理协议。

根据具体协议内容，昂士特介质层化学机械抛光液、浅槽隔离化学机械抛光液、钨化学机械抛光液、硅晶圆化学机械抛光液、碳化硅晶圆化学机械抛光液、超精密加工抛光液等全线产品上线世强硬创平台。

据了解，昂士特是一家集研发、生产、销售于一体的专精特新企业，致力于开发集成电路关键紧缺新型材料。

该公司现有两类层间电介质（ILD）化学机械抛光液，包括基于氧化硅纳米颗粒的抛光液和氧化铈纳米颗粒的抛光液。氧化硅纳米颗粒的ILD抛光液具有高去除速率、高平坦化效率、低缺陷的优点；氧化铈纳米颗粒的ILD抛光液具有高去除速率、高平坦化效率、低缺陷、低成本的优点。

基于氧化铈纳米颗粒的浅槽隔离（STI）化学机械抛光液用于集成电路制造工艺中浅槽隔离的抛光，具有高选择比、选择比可调、高平坦化效率、低缺陷率和低成本等优点。

通常，金属钨抛光液用于集成电路制造工艺中钨塞和钨通孔的平坦化。昂士特旗下现有两种基于氧化硅磨料的钨化学机械抛光液，包括高选择比的钨本体抛光液和高稀释比的钨本体抛光液，且具有可调的钨去除速率，可应用于逻辑芯片和存储芯片中钨的平坦化。

此外，昂士特拥有三大系列（粗抛、边抛、精抛）硅片化学机械抛光液，包括循环时间长、高纯度的硅片粗抛抛光液；高抛光速率、低粗糙度的硅片边抛抛光液和高平整度、低缺陷的硅片精抛抛光液。产品可用于逻辑芯片和存储芯片中硅衬底的平坦化，以及多晶硅、再生硅和其他硅应用的表面平坦化。

同时，还拥有多款不同类别的碳化硅化学机械抛光液，适用于不同尺寸下4H及6H构型碳化硅晶圆的粗抛与精抛，具有高去除率、高平坦化速率、可浓缩和低腐蚀性或无腐蚀性的产品特性。

旗下氧化铝体系和硅溶胶体系的超精密加工类化学机械抛光液，可用于不锈钢、铝合金、钛合金、陶瓷等材料的抛光，产品线分为平抛和3D抛，产品具有去除率高、抛光后粗糙度低于10nm、光泽度高、易于清洗等优点。

近年来由于下游应用市场发展迅速，对化学机械抛光液需求仍在持续扩大。经过本次与世强先进联手，借助世强硬创线上+线下经营模式，不断深化昂士特产品在市场的应用，同时也助于提升业绩、扩大昂士特产品在全球的市场份额。

昂士特科技（深圳）有限公司（以下简称“昂士特”）成立于2019年初，是一家集研发、生产、销售于一体的高新技术企业，致力于开发集成电路关键紧缺新型材料。公司秉承“锲而不舍、奉献担当”的价值理念，坚持“自主研发、规模生产”的目标宗旨，力求为全球客户提供最优质的抛光液以及最佳的表面技术解决方案。查看更多

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