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中科卓尔推出原子层沉积镀膜设备ALD1200-500和磁控溅射镀膜设备MSC700-750-700
中科卓尔原子层沉积镀膜设备ALD系列,镀膜温度范围常温-500℃,使用便捷稳定
原子层沉积主要应用于沉积间隙填充介电材料、侧壁和掩膜图案化、适形衬垫、刻蚀截止层、钨插塞、接触孔和通孔填充、3DNAND字线、低应力复合互联、用于通孔和接触孔金属化的阻挡膜等。设备结构与紧凑,使用便捷稳定。特别适用于具有超高纵横比形貌的涂层表面,以及需要具有高质量界面技术的多层膜的表面。
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