磁控溅射常见问题及解决方法
磁控溅射,一种广泛应用于薄膜材料制备的高效物理气相沉积技术,基本原理在于利用磁场控制电子轨迹,增强等离子体的密度和稳定性。技术广泛应用于半导体、磁盘驱动器、光学器件、光伏和涂层行业,尤其是在制造高质量、均匀薄膜方面。以下是磁控溅射中常见的问题,了解并掌握这些因素可以帮助快速找到故障的原因及解决方法。
膜层灰暗及发黑
(1)真空度低于0.67Pa,应将真空度提高到0.13-0.4Pa;
(2)氩气纯度低于99.9%,应换用纯度为99.99%的氩气;
(3)充气系统漏气,应检查充气系统,排除漏气现象;
(4)底漆未充分固化,应适当延长底漆的固化时间;
(5)镀件放气量太大,应进行干燥和封孔处理。
膜层表面光泽暗淡
(1)底漆固化不良或变质。应适当延长底漆的固化时间
或更换底漆。
(2)溅射时间太长。应适当缩短。
(3)溅射成膜速度太快。应适当降低溅射电流或电压。
膜层色泽不均
(1)底漆喷涂得不均匀。应改进底漆的施涂方法。
(2)膜层太薄。应适当提高溅射速度或延长溅射时间。
(3)夹具设计不合理。应改进夹具设计。
(4)镀件的几何形状太复杂。应适当提高镀件的旋转速度。
膜层发皱、龟裂
(1)底漆喷涂得太厚,应控制在7-lOtan厚度范围内;
(2)涂料的粘度太高,应适当降低;
(3)蒸发速度太快,应适当减慢;
(4)膜层太厚,应适当缩短溅射时间;
(5)镀件温度太高,应适当缩短对镀件的加温时间。
膜层表面有水迹、指纹及灰粒
(1)镀件清洗后未充分干燥,应加强镀前处理;
(2)镀件表面溅上水珠或唾液,应加强文明生产,操作者应带口罩;
(3)涂底漆后手接触过镀件,表面留下指纹,应严禁用手接触镀件表面;
(4)涂料中有颗粒物。应过滤涂料或更换涂料。
(5)静电除尘失效或喷涂和固化环境中有颗粒灰尘。应更换除尘器,并保持工作环境的清洁。
膜层附着力不良
(1)镀件除油脱脂不彻底,应加强镀前处理;
(2)真空室内不清洁,应清洗真空室。值得注意的是,在装靶和拆靶的过程中,严禁用手或不干净的物体与磁控源接触,以保证磁控源具有较高的清洁度,这是提高膜层结合力的要措施之一;
(3)夹具不清洁,应清洗夹;
(4)底涂料选用不当,应更换涂料;
(5)溅射工艺条件控制不当,应改进溅射工艺条件。
中科卓尔强大的研发团队和镀膜工艺团队,确保出厂的每一台设备都能全面满足客户的要求。
1、产品参数
设备尺寸:1500*800*1300设备尺寸:2800*1000*2300
阴极:4个4inch(2-3寸可选),兼容直流和射频,可溅射磁性材料靶材
电源:DC、RF、DCPluse可选
基片:行星旋转系统,六工位4inch晶圆或工件
加热:RT-400℃
工艺气体:2-3路工艺气体,根据工艺可选
本地真空:本底真空<5*10-7mbar
可选:基片偏压清洗、基片离子源清洗、load/ock、手套箱、在线膜厚测量系统、高精度自动压力控制、基片高温加热、共溅射方案、电源切换系统等。
2、应用领域
1.功能性薄膜:具有吸收、透射、反射、折射、偏光等作用的薄膜;
2.装饰领域:各种全反射膜及半透明膜等;
3.微电子领域:在微电子领域作为一种非热式镀膜技术,主要应用在化学气相沉积(CVD)或金属有机物。
4.光学领域:增透膜、低辐射玻璃和透明导电玻璃等方面得到应用。特别是在透明导电玻璃广泛应用于平板显示器件、太阳能电池、微波与射频屏蔽装置与器件、传感器等。
5.机械加工领域:在机械加工行业中,表面功能膜、超硬膜,自润滑薄膜,能有效提高表面硬度、复合韧性、耐磨损性和抗高温化学稳定性能,从而大幅度地提高涂层产品的使用寿命。
磁控溅射除上述已被大量应用的领域,还在高温超导模、铁电体薄膜、巨磁阻薄膜、薄膜发光材料、太阳能电池、记忆合金薄膜研究方面发挥重要作用。
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