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中科卓尔为考察团介绍对空白掩膜版、智能装备设备和精密光学器件加工产品的发展和规划,共同推动光电产业发展
5月12日上午,南阳政府与前海基金一行莅临成都中科卓尔智能科技集团进行考察并开展交流座谈,考察团在成都中科卓尔智能科技集团董事长杨伟的陪同下,共同在中科卓尔生产车间,考察了智能装备设备、产品的生产、研发等环节,一起交流了公司的发展现状、先进技术等。对中科卓尔在精密光学、半导体材料及智能装备领域国产替代,弥补产业链空白的理念给予了充分肯定和认可。
原厂动态 发布时间 : 2024-05-30
中科卓尔携光学检测设备产品及解决方案亮相2024中国(成都)国际精密光学暨机器视觉技术应用大会
日前,2024中国(成都)国际精密光学暨机器视觉技术应用大会在成都环球中心天堂洲际大饭店圆满落幕,中科卓尔精密加工、检测与镀膜技术领域,光学检测设备、成套定制化、标准化产品解决方案获得多位专家、同行的一致好评!
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中科卓尔智能科技集团携原子层沉积镀膜设备等产品参加第24届中国国际光电博览会
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【技术】什么是空白掩膜版?
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【产品】可做镀膜温度范围常温500℃的磁控溅射镀膜设备MSC700-750-700,镀膜厚度≥10nm
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中科卓尔提供同轴抛物面镜加工,打造高精度、高品质的光学元器件有力保障
除了同轴抛物面镜的加工,中科卓尔还可以向客户提供空白掩膜版,元件高精密成型,平面,球面及红外光学元器件等的加工服务。优良的加工环境如新建成的百级无尘车间,完整的工艺配套硬件如磁流变、镀膜机等先进设备,是我司打造高精度、高品质的光学元器件的有力保障。
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什么是真空镀膜均匀性?
薄膜厚度之均匀性不仅关系到量产数,也会影响到镀膜面是否因膜厚分布不均匀而造成波面变化,因此一台镀膜机的基板支撑架的设计应需考虑到此点。本文中中科卓尔将为大家详细解析什么是真空镀膜均匀性,并向大家推荐高性能镀膜设备,保证满足膜厚均匀性需求。
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空白掩膜版的产品概括
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【产品】原子层沉积镀膜设备ALD1200-500的厚度控制精度≥0.15nm,膜厚均匀性±0.1nm
中科卓尔推出的原子层沉积镀膜设备ALD1200-500的镀膜膜系支持AL2O3、TiO2、ZnO等,厚度控制精度≥0.15nm,膜厚均匀性±0.1nm。采用原子层沉积(Atomic layer deposition,ALD),这是一种可以将物质以单原子膜形式一层一层的镀在基底表面的方法。
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【仪器】快沉积、高效率磁控溅射镀膜设备MSC 700-750-700,操作简单易控,适合工业生产大规模应用
中科卓尔标准型磁控溅射设备适用于大学院校、科研院所及企业进行薄膜新材料的科研与小批量制备。占地面积小,操作简单,性能稳定,使用维护成本低;自由选择各类功能单元,可用于制备单层及多层金属膜、介质膜、磁性膜、传感器膜及耐热合金膜、硬质膜、耐腐蚀膜等。
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服务
支持微型计算机 、便携式计算机显示设备、投影仪、打印设备、绘图仪、多用途打印复印机、扫描仪、计算机内置电源、电源适配器、充电器、服务器、收款机等产品中国强制性产品认证。
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可贴片样板PCB尺寸范围50*50~910*600mm,设备贴装最小元件尺寸:01005,设备贴装最小pitch(IC类)元件:0.15mm;设备贴装最小pitch(BGA类)元件:0.2mm。
最小起订量: 1pcs 提交需求>
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