【经验】芯片损坏分析:ESD和EOS的区别
ESD概述:
ESD全称Electrostatic Discharge, 是指芯片或系统积累的静电放电过程,同时也指是对芯片能承受的放电能力的要求。业界把最常用的静电放电过程进行了分类和建模,形成了一系列标准,进而提出了对操作环境和过程的要求。就对芯片级要求来说ESD标准目前主要分为人体模式(HBM),机器模式(MM),充-放电模式(CDM),分别对因人体的电荷放电,机器的电荷放电和芯片或系统板级自身的电荷放电。系统级的ESD还有IEC61000-4-2这种更严格的评估标准。CDM模式是最近比较受重视的一种放电模式,特别是随着芯片规模越来越大,积累的电荷规模也变大,但ESD保护电路却受到位置,走线,多电源域等更严格的限制,导致CDM防护设计变得越来越有挑战。
EOS概述:
EOS是个大家庭,全称Electrical Overtress,是指芯片或系统工作环境(比如电源电压)超过预期的过程,这可能会对芯片或系统造成严重损坏。造成EOS的原因有很多,头一个就是ESD,其他还有错误的电源操作引起异常供电,负载剧烈变化引起的的浪涌,甚至是因为雷击,EOS也有一系列标准。LATCHUP也是经常听到的术语,也和芯片损伤有关。LATCH-UP是特指芯片内部P型/N型/P型/N型半导体组合成的这个结构发生产生大电流的正反馈导通现象。ESD和其他类型的EOS都有可能造成LATCH-UP,但也未必都是因为LATCH-UP而造成损坏。LATCH-UP也有自己的测试标准。简单的原理是对芯片注入某个量级的触发电流,验证芯片会不会发生LATCH-UP。
芯片损坏原因:
● 高压:过高的电压会导致原本隔离的介质隔离性能变差,典型的例子是MOS管的栅极因为承受高压而被击穿,导致栅极与沟道不再绝缘。
● 过热:绝大部分半导体内部的不可逆损坏都是因为过高的温度。
对半导体内部损坏有影响的是三个变量:电压,电流,时间。它们三者的乘积超标了,半导体器件内部就会失效。反言之,只要通过手段控制任何一个变量使总的乘积不超标,就能避免损坏。好像很简单吧?典型的发热损坏的例子是LATCH-UP。在能量充足的情况下比如持续供电时如果发生LATCH-UP就会导致电压,电流,时间的乘积超标进而造成过热损伤。
ESD造成损伤:
如果没有ESD保护器件,那么很高的ESD电压会被加在器件上,可能引起几个结果:
● 器件没有导电能力,比如栅极,那么高压会一直持续,直到栅极击穿。
● 器件承受的电压高到器件产生导电能力时,器件开始提供泄电通路,ESD电荷得到泄放,并在ESD源头产生主要压降,使器件承受的高压不再增加形成平衡。如果器件的电流,电压和ESD持续的时间超标,那么器件就会过热而损坏。
ESD的高压过程持续时间通常很短(几十纳秒到几十微秒之间),高压所包含的能量也有限(静电电荷被释放完了就结束了),所以ESD造成的热损伤通常是局部的且单一的,当然系统上电工作时的ESD放电也可能由瞬态latch-up变成持续latch-up引发持续大电流造成严重损坏。而其他类型的EOS由于引发原因不同,持续时间范围很广,短时间的EOS表现和ESD类似,可能造成不易发现的损伤,影响可靠性。但长时间的EOS的能量会大得多,通常造成严重的多类型的芯片损伤,比如芯片大面积的融化,以及键合线损伤甚至封装碳化。
所以芯片的ESD保护电路可以对部分与ESD放电类似的EOS过程形成有效防护,但对于长时间的EOS过程可能是不够的,特别是需要靠latch-up来帮助泄放能量的保护器件,在长时间的latch-up过程中很容易因为高温损坏。所以要对抗大能量长时间的EOS需要更专业的,能耐受更大功率的保护器件如TVS钳位器件。由此我们清楚了ESD是EOS的一种,可见提高芯片抗ESD的能力会对某些类型的EOS有所帮助,但并不意味着就万无一失了,还是需要从应用和系统的角度做好EOS的防护,减少发生EOS的概率才能彻底提高系统可靠性。
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