GaN PA器件逐渐深入基站高频应用,适应5G网络对性能和功率效率的需求,适用于大规模MIMO

2021-08-20 时代速信
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5G对于设备性能和功率效率提出了更高的要求,特别是在基站端,基站数量和单个基站成本双双上涨,这将会带来市场空间的巨大增长。依据蜂窝通信理论计算,要达到相同的覆盖率,估计中国5G宏基站数量要达到约500万个。2021年全球5G宏基站PA和滤波器市场将达到243.1亿元人民币,年均复合增长率CAGR为162.31%,2021年全球4G和5G小基站射频器件市场将达到21.54亿元人民币,CAGR为140.61%。

 

由于基站越来越多地用到了多天线MIMO技术,这对PA提出了更多需求。预计到2022年,4G/ 5G基础用的射频半导体市场规模将达到16亿美元,其中,MIMO PA的年复合增长率将达到135%,射频前端模块的年复合增长率将达到 119%。

 

相对于4G,5G基站用到的PA数会加倍增长。4G基站采用4T4R方案,按照三个扇区,对应的射频PA需求量为12个,5G基站中,预计64T64R将成为主流方案,对应的PA需求量高达192个。

 

功耗问题待解决

虽然,5G发展前景可期,但相关技术依然未达到成熟水平,特别是功耗问题,无论是基站,还是手机端,都存在这个问题,这也是苹果依然没有推出5G手机的一个重要原因。

 

特别是基站,目前来看功耗比4G高出不少,而在所有耗电的芯片元器件当中,PA是大户。因为射频信号功率很小,只有经过PA放大获得足够的射频功率后,才能馈送到天线并发射出去,因此,PA是基站发射系统的重要器件。与此同时,PA也是最耗电、效率较低的器件,有统计显示,约一半的基站功率消耗在了PA上。

 

然而,宏基站和小基站之间的功耗又有非常明显的区别:与宏基站相比,小基站的覆盖范围小,发射功率低,PA非线性失真较小,PA功耗占比也较小,甚至可能不需要DPD等技术来进行预失真处理。因此,对应不同的基站,特别是5G基站的需求,PA有更多的产品路线可走,未来的商机也多了起来。

 

GaN替代LDMOS

基站用PA市场空间巨大,但其性能和功率效率问题亟待解决。在这样的背景下,新工艺技术替代传统工艺早已被提上了议事日程。


目前的PA市场,包括基站和手机端用的,制造工艺主要包括传统的LDMOS、GaAs,以及新兴的GaN。而在基站端,传统LDMOS工艺用的更多,但是,LDMOS 技术适用于低频段,在高频应用领域存在局限性。而为了适应5G网络对性能和功率效率的需求,越来越多地应用到了GaN,它能较好地适用于大规模MIMO。


GaN具有优异的高功率密度和高频特性。GaAs拥有微波频率和5V至7V的工作电压,多年来一直广泛应用于PA。硅基LDMOS技术的工作电压为28V,已经在电信领域使用了许多年,但其主要在4GHz以下频率发挥作用,在宽带应用中的使用并不广泛。相比之下,GaN的工作电压为28V至50V,具有更高的功率密度和截止频率,在MIMO应用中,可实现高整合性解决方案。

 

在宏基站PA应用中,GaN凭借高频、高输出功率的优势,正在逐渐取代LDMOS;在小基站中,未来一段时间内仍然以GaAs工艺为主,这是因为它具备可靠性和高性价比的优势,但随着GaN器件成本的降低和技术的提高,GaN PA有望在小基站应用中逐步拓展。

 

在手机端,射频前端PA还是以GaAs工艺为主,短期内还看不到GaN的机会,主要原因是成本和高电压特性,这在手机内难以接受。

 

总之,很可能大部分6GHz以下宏基站应用都将采用基于GaN工艺的PA,5G网络采用的频段更高,穿透力与覆盖范围将比4G更差,因此,小基站将在5G网络建设中扮演很重要的角色。不过,由于小基站不需要如此高的功率,GaAs等现有技术仍有其优势。而传统的LDMOS工艺在基站用PA市场的份额将逐年减少,很可能在不久的将来退出历史舞台。

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