Menlo Micro选择Keysight的PathWave软件来缩短新型射频微机电开关的设计周期
是德科技公司是一家领先的技术公司，提供先进的设计和验证解决方案，旨在帮助加速创新，创造一个安全互联的世界。该公司宣布MenloMicro选择了该公司的PathWave高级设计系统(ADS)和电磁(EM)设计软件，助力创新材料科学的进步并开发高性能微机电系统(MEMS)开关。
MenloMicro需要解决与精确3D电磁仿真和集成设计、测试和测量工作流程相关的客户挑战，从而解决新型MM5130（一种超低损耗射频(RF)SP4T开关）的开发问题，满足高达26GHz的大功率开关应用。为了按照预期时间上市，Menlo将设计周期缩短为三到四个月。
MenloMicro希望在早期开发阶段就验证其新型MM5130开关的性能，所以它选择在KEYSIGHT的PathWaveADS软件中实现自己的PCB去嵌入算法。“在选择设计工具时，我们需要考虑整个流程，从设计图到3D模拟,”MenloMicro的技术总监XuZhu博士说。“我们的工程师需要熟悉这些工具，这也是我们选择Keysight的PathWave高级设计系统作为核心工具的原因之一。”
Menlo选择将Keysight的电磁设计软件（包括EMPro和RFPro）集成到PathWaveADS平台中，为他们的工程团队搭建一个熟悉的设计环境。由于工程师们在不断地改变和调整PathWaveADS的布局，因此确保从电路布局到3DEM仿真的流畅工作流程是极其关键的。
Keysight的EMPro和RFPro使Menlo能够顺利地将2D布局转换成3D模型文件。Keysight的RFPro采用了SmartMount和网格域优化技术，解决了网格优化的难题。MenloMicro的设计流程涵盖多个供应商的工具，因此互操作性也是至关重要的。
因此，MenloMicro能够将其新型MEMS开关的设计周期缩短65%，其测量结果与仿真结果密切相关。此前这种规模的项目可能需要长达9个月的时间才能完成。在与其他替代品比较关键指标规格时，MenloMicro证实其创新技术在功率密度(SP4T25W功率处理)、RF插入损耗、线性和超低功耗方面有显著的改进。
Keysight公司PathWave设计业务总经理TomLillig说:“MenloMicro公司设计了一个复杂的多技术模块，包括从微米级MEMS到毫米级PCB的各种几何结构。利用Keysight的快速、高容量、3DEM电路模拟器，他们一次即成功的完成了该模块。”
Menlo还创建了设备原型，并通过晶圆探测进行了测量，证实了首次制造即成功。接下来，他们的工程团队基于Keysight的矢量电路网络分析仪(VNA)进行测量，将其仿真结果与实际去嵌入式设备测量结果进行比较，作为客户的理论型验证。
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