【产品】原子层沉积镀膜设备ALD1200-500的厚度控制精度≥0.15nm，膜厚均匀性±0.1nm

时间： 2022-09-27 来源：中科卓尔官网

技术问答

中科卓尔推出的原子层沉积镀膜设备 ALD1200-500的镀膜膜系支持AL2O3、TiO2、ZnO等，厚度控制精度≥0.15nm，膜厚均匀性±0.1nm。采用原子层沉积方法，原子层沉积（Atomic layer deposition，ALD）是一种可以将物质以单原子膜形式一层一层的镀在基底表面的方法。原子层沉积与普通的化学沉积有相似之处，但在原子层沉积过程中，新一层原子膜的化学反应是直接与之前一层相关联的，这种方式使每次反应只沉积一层原子。

规格参数

应用领域

薄膜沉积方法的比较

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