【经验】以SCT3040KR为例说明SiC MOSFET的Vgs尖峰可通过SBD和MOSFET的设计来进行抑制

2020-02-18 世强
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SiC MOSFET的Vgs尖峰是影响SiC MOSFET设计的痛点。尖峰抑制得好,将提升产品应用的可靠性。图1是采用抑制的MOSFET(Q53)和钳位SBD(D55和D56)来实现SiC MOSFET设计的尖峰抑制。


在参考设计的原理图上,Q51采用的是ROHMSCT3040KR(同样适用于SCT3040KL)系列。其中搭建Active-MOSFET(Q53)的设计下,D55二极管结合C58可形成正电压尖峰的抑制,D56二极管结合C59可形成负电压尖峰的抑制。C67主要是防自启动。

图1:设计原理图


图2中外置驱动电阻采用3.3Ω的情况下测试的波形,蓝色曲线是采用了SBD和MOSFET的设计方案,红色曲线是无钳位SBD和MOSFET的曲线。通过曲线对比,采用钳位SBD和MOSFET消除的自启动电流(Id曲线)和抑制了尖峰电压(Vgs)。


图2:外置电阻3.3Ω的Sic MOSFET相关参数测试波形


图3中外置驱动电阻采用10Ω的情况下测试的波形。通过曲线对比,采用钳位SBD和MOSFET消除的自启动电流和抑制了尖峰电压。但是当外置电阻加大,Vgs曲线尖峰更大且Id电流曲线可以看出自启动现象更加显著。故增加钳位SBD和MOSFET的抑制效果更加明显。

图3:外置电阻10Ω的Sic MOSFET相关参数测试波形


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ROHM(罗姆)SiC(碳化硅)MOSFET选型指南(英文)

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